⑴ 如何做赫爾槽試驗 鍍鋅
霍爾槽 Hull Cell [霍爾槽、赫爾槽或哈氏槽]
赫爾槽試驗
一、赫爾槽試驗的特點及其應用
赫爾槽試驗只需要少量鍍液,經過短時間試驗便能得到在較寬的電流密度范圍內鍍液的電鍍效果。由於該試臉對鍍液組成及操作條件作用敏感,因此,常用來確定鍍濃各組分的濃度以及pH值,確定獲得良好鍍層的電流密度范圍,同時也常用於鍍液的故障分析。因此,赫爾槽已成為電鍍研究、電鍍工藝控制不可缺少的工具。
二、赫爾槽的形狀及試驗裝置
1.赫爾槽結構
赫爾槽常用有機玻璃或硬聚氯乙烯等絕緣材料製成,底面呈梯形,陰、陽極分別置於不平行的兩邊,容量有 1000mL,267mL兩種。人們常在267mL試驗槽中加入 250mL鍍液,便於將添加物折算成每升含有多少克。
2.赫爾槽試驗裝置
赫爾槽試驗電路與一般的電鍍電路相同,電源根據試驗對電壓波形要求選擇。串聯在試驗迴路中的可變電阻及電流表用以調節試驗電流及電流指示,並聯的電壓表用以指示試驗的槽電壓。
三、赫爾槽陰極上的電流分布
赫爾槽的陰極板與陽極板互不平行,陰極的離陽極較近的一端稱近端;另一端離陽極遠,稱遠端。由於電流從陽極流到陰極的近端和遠端的路徑不同,不同路徑槽液的電阻也不同,因此陰極上的電流密度從遠端到近端逐漸增大,250mL的赫爾槽近端的電流密度是遠端的50倍。因而一次試驗便能觀察到相當寬范圍的電流密度下所獲得的鍍層。
有人經過酸性鍍銅、酸性鍍鎳、橄化鍍鋅、氰化鍍鎬四種鍍液在不同電流強度下進行電鍍試驗並取它們的平均值,得到陰極上各點的電流密度與該點離近端距離關系的經驗公式:
1000mL赫爾槽 Jk=I*(3.26一3.05 1ogl)
267mL赫爾槽 Jk=I*(5.10一5.24 1ogl)
式中 Jk—陰極上某點的電流密度值〔A/dm2〕;
I--試驗時的電流強度(A);
l--陰極上該點距近端的距離(cm).必須注意,靠近陰極兩端各點計算所得的電流密度是不正確的。藝=0.635--8.255cm范圍內,計算值有參考價值.
267mL赫爾槽中放入 250mL鍍液做試臉時,陰極上各點的電流密度應是267mL的1.068倍,即267mL赫爾槽陰極的相應點的電流密度乘上267/250。
四、赫爾槽的試驗方法
1.樣液 試驗用樣液要有代表性。取樣前,鍍液必須充分攪拌,並從鍍槽的不同部位採取,混和後取用.赫爾槽試驗使用不溶性陽極時,鍍液試驗 I~2次就要更新;使用可溶性陽極時,每取一次槽液可使用6~8次.做雜質或添加劑的影響試驗時,槽液使用次數應少些。
2.試驗條件 槽液溫度應與生產時相同,時間一般為5-10分鍾,光亮鍍液應採用空氣或機械攪拌,電流常取1~2A,鍍鉻用5~ 10A。
3.確定電流密度范圍
4.繪圖記錄 記錄樣板情況應同時記錄鍍液成分、操作條件,記錄可縮減為l cm高的矩形,或僅取樣板中間一條記錄。鍍層狀況可用符號表示,當符號還不能充分說明間題時,可配合適當的文字。此外,當樣板需作為資料可在試片乾燥後塗上清漆。保存樣板的照片也常常能起到同樣的效果。
詳見:http://ke..com/view/642735.html
⑵ 氯化鉀鍍鋅鉛雜質過多赫爾槽試片有何表現
鐵雜質的影響 存在於鍍液中的鐵雜質伺 種,一種是二價鐵,一種是三價鐵。三價鐵允讒幾乎有半塊樣板出 10mi現燒焦粗糙區,同時低電流區鍍層發灰。這種鍍濃要是用於滾鍍,則會出現貼近滾筒壁處鍍層嚴重燒 金焦,這就是黑點,俗稱滾筒眼子印。筆者曾多次茌 現場碰到過這一類故障現象,也有許多人來詢問對這一問題如何解決,直到近期還有人來咨詢。二價在氯化物(包括氯化銨、氯化鉀和氯化鈉)鍍鋅 高溶液中的確是普遍存在的,而且許多人對此間題明發生不知所以然,因此也無從下手去解決。經研究 發現,二價鐵主要是因鍍前處理方法不當而帶入的。鍍鋅件的鍍前處理,常規方法譴低冒鹽酸浸蝕,或直接用浸蝕除油一步法溶液,將際屹,根考和浸蝕兩道工序一步完成。這兩種工藝都以浸蝕、清洗結尾,這樣在零件表面上總會確殼而酸液中有大量的二價鐵離子,酸液與鐵遜會越化 bh腐蝕作用,進一步生成氯化亞鐵或硫酸亞鐵。我們發現這是二價鐵離子的主要污染源。另外,鍍件 書瓦楞掉落到鍍槽中未及時撈出,與鍍液反應產生化學溶 的情Z解,當然也是原因之一,但主要原因還是鍍件帶酸右。造成的。為此,筆者建議前處理時,在浸蝕和清洗 陽極最後,要加一道鹼中和工序,可用質量分數為左右 陽極童的氫氧化鈉溶液來進行中和。如浸鹼液後不是馬上 目鉤和寺就進行電鍍的,則可讓待鍍件放置在空氣中擱置。一般放置一兩個小時是不成問題的。如要電鍍了,可用自來水清洗一下就可進槽。這樣做的目自的是讓零件表面上因酸液帶來的二價鐵在空氣中氧化成三價鐵。
銅雜質的影響 銅雜高電流密度區鍍層會出現明顯燒焦和粗糙,低曦電流區鍍層發黑,體積分數為3%的稀硝酸出光後鍍{層反而比不出光時光亮度還差。霍爾槽試驗表明,當當銅雜質過量時,試片上出現的鍍層發黑程度是越往電電流密度低的方向越嚴厲重。用體積分數為3%的構稀硝酸出光,根據鋅鍍層表面狀況,能較容易判斷?銅雜質的低電流密度條件下進行電解處理,處理啪時間長短要根據含銅量的多少而定。電解處理時陰極最好用瓦楞鐵板。在鍍層發黑較嚴重,時間又又要求較的情況下,則可以用鋅粉處理。鋅粉用量在2g/L左右。銅雜質主要在於預防,我們在前面已經提到,陽極最好要用0號鋅錠。另外,要防止銅棒、陽極銅鉤和掛具掉人鍍槽,更要防止銅綠掉入鍍液中。 雜質的影響 鉛雜質平時不大會遇到,如果有鉛雜質,第一應該要檢查的是鋅板。如果是 新配鍍液,那就要考慮氯化鋅的質量。鉛雜質的影響甚至比銅雜質的更為嚴重,輕則鈍化後鍍層發霧,鈍化膜很快變色,重者滾鍍時鍍層不沉積,看上去似乎有鍍層,但一經稀硝酸出光,很快便露底了。鉛雜質的含量要控制在Smg/L以下。鉛雜質可用E電解法或鋅粉進行處理,但處理起來比銅要難。鉛雜 能抵質污染了的鍍鋅溶液,如鍍後要進行白鈍化處理,很難得到藍白色膜的;彩色鈍化的,則鈍化膜會 刁在幾小時或幾十小時內很快變色。如有這種現象發 於玲生,我們就應該考慮鍍液是否被鉛雜質所污染。由 入,在於鉛主要來自質量差的鋅板,所以首先得檢查鋅板 光亮是否有問題。
⑶ 鍍鋅赫爾槽試驗的試片用鐵的還是銅的
鍍鋅赫爾槽試驗使用鐵基材試片,如果是銅試片,側有可能會使鍍液中帶入銅離子,當銅離子達2ppm時,試片低位會黑
⑷ 什麼叫哈氏片
哈氏片是用於哈氏槽試驗試片電極夾專用於霍爾槽試驗陽極、陰極的導電和固定,接觸試片導電面大,導電電流充裕,緊固試片,通過黃銅片測試可模擬檢測電鍍的品質和查找問題。
在整個哈氏片行業做的比較大的廠家有同興銅材,最新雙面拋光技術全國獨一無二。
黃銅哈氏片專門用於測定鍍鉻溶液中的硫酸根含量,硫酸快速測定儀使用簡便、快捷、誤差小,不需做工作曲線,只需十分鍾即可精確測定出鍍液中硫酸根的含量。
成功的解決了滴定法及重量法檢測復雜、時間長、誤差大的缺點,是鍍鉻工藝分析的必備儀器。
同興銅材哈氏片的規格有以下九種:
100*65*0.2mm(未拋光) 100片/盒
100*65*0.2mm(單面拋光) 100片/盒
100*65*0.2mm(雙面拋光) 100片/盒
100*65*0.25mm(未拋光) 100片/盒
100*65*0.25mm(單面拋光) 100片/盒
100*65*0.25mm(雙面拋光) 100片/盒
100*65*0.3mm(未拋光) 100片/盒
100*65*0.3mm(單面拋光) 50片/盒
100*65*0.3mm(雙面拋光) 50片/盒
哈氏片雙面拋光技術最新研發上市。
赫爾槽實驗簡介
赫爾槽,又名霍爾槽,哈氏槽,霍耳槽等等,都是來源於英文HULL CELL 的中文音譯。赫爾槽實驗是一種實驗效果好,操作簡單,所需溶液體積小的小型電鍍試驗。他可以較好在短時間內確定獲得外觀合格鍍層的電流密度及其他工藝條件,如溫度,PH值等。主要用於研究電鍍溶液中主要組分和添加劑的相互影響,幫助分析電鍍溶液產生故障的原因,此外赫爾槽實驗還可以測定電鍍溶液的分散能力、整平能力以及鍍層的內應力,因此,赫爾槽試驗在電鍍實驗研究和現場生產質量控制方面得到了廣泛的應用。
赫爾槽陰陽極之間不是平行的,而是有一定的角度,俯視的橫截面應該是一個梯形,梯形高的位置放置陽極,斜邊位置放置陰極,這是赫爾槽的最主要特點。
赫爾槽根據所裝的容積可分為:267ml、500ml、1000ml三種。最常用的是267ml,液面高度為45mm,赫爾槽使用底部鼓氣的方式來實現溶液攪拌的目的,加熱一般是通過安裝在底部的加熱棒來實現。
赫爾槽實驗方法
1. 溶液的選擇
為了獲得正確的試驗結果,選擇的溶液必須具有代表性,在重復實驗時,每次所取溶液的體積應相同,當使用不溶性陽極時,溶液經過1-2次試驗後應該更換新的溶液。如果採用可溶性陽極則最多試驗4-5次後應更換新的溶液。
2. 陰陽極材料的選擇
赫爾槽的陰陽極通常都是長方形的薄板,陽極厚度一般為3-5mm,長寬一般為60×70mm,陰極的厚度一般是0.2-0.3mm,一般為100×65mm。
陽極材料應與生產中使用的陽極相同,也可以使用不銹鋼等不溶性陽極。在某些溶液中陽極容易鈍化,可採用瓦楞狀或者網狀,但幾何厚度不超過5mm,鍍鉻陽極在使用前必須在另外的鍍鉻溶液中使表面先獲得一層導電的棕色過氧化鉛的薄膜才能使用。陰極材料一般為鐵片,銅片,不銹鋼片等。
在赫爾槽中,陽極到陰極各個部分的距離不一樣,所以,陰極各部分的電流密度分布也不同,在距離陽極近端的陰極部分的電流密度較高,依次往遠端越來越低 。267ml赫爾槽陰極近端與遠端的電流密度相差50倍。這就有助於在同一塊陰極上可以觀察不同電流密度下的鍍層狀況,從而可以大致確定正常電鍍的電流密度的范圍。
什麼是哈氏片,以及哈氏片的用途性能等都解說完了,希望能幫到您。以下是哈氏片的產地和圖片。
東莞同興銅材
地址:廣東省東莞市長安鎮S358省道133號
⑸ 使用鹼性鍍鋅光亮劑生產時,赫爾槽打片時有哪些容易出錯的操作呢
我們用的是廣東比格萊的鹼性鍍鋅光亮劑,根據我們的生產經驗看,一般鍍液在版進行赫爾槽權打片時容易出錯的操作主要有:
1、陽極板厚度超過5毫米。
2、同一杯鍍液打片超過3次以上。
3、打片條件記錄不完整。
4、使用了不標準的赫爾槽或電源。