『壹』 打磨拋光有哪些要點
打磨拋光的要點1.表面橙皮效應對策：減輕拋光壓力使用較大的油石或加鑽石膏的木條.使用較軟的毛氈, 拋光布加鑽石膏.減小打磨拋光工序間的砂號差別.檢查被拋模具的硬度是否正確.2.部分表面被拉出或出現表面細針孔.對策：檢查被拋模具的硬度是否正確.減小打磨拋光工序間的砂號差別.僅使用 6 mm 及更細的鑽石膏.使用較6 mm 為粗的普通拋光磨料.最終的光學鏡面拋光, 使用優質紙巾手工拋光加鑽石膏Kemet 牌 1-KD-C2 .3.拋光面不夠平整對策：如可能, 可用 KEMET牌拋平系列, 或:使用GESSWEIN牌的平面油石整平表面;盡量使用最大面積的砂紙, 木條或油石4.內孔拋光不夠均勻對策：對於預先磨削的及精車的內表面, 可試用Kemet 牌的鑽石膏6-KD-C2 作螺旋式拋光5.拋光中如何避免產生劃花對策：分開不同砂號的磨料工具.一種打磨工具專用一種砂號的磨料.僅按一個打磨方向打磨. 更換砂號時須改變方向 45°或90°. 使用油石及砂紙打磨時, 應使用潤滑劑.砂紙打磨後須清潔干凈後再進行鑽石膏拋光. 對形狀復雜的零件及模具的清潔, 可使用KEMESONIC 超聲清洗機6.經拋光的表面出現有亞表層的花紋(sub-surface marking)對策：將零件去磁並重新拋光7.如何拋光模具的流道或類似的表面對策：使用合適尺寸的GESSWEIN G-Glex 輪.這種細棉布疊成的輪已加入了磨料8.當模具在模塑機上時, 如何去除拋光模面上的瑕疵點.對策：使用已加上鑽石膏1-KD-C2 or 3-KD-C2 KEMET 的優質紙巾或Selvyt 布輕抹瑕疵點區, 不要用潤滑液. 使用溶劑輕輕清潔9.如何拋光電火花加工的深窄槽對策：用超聲拋光機及 KEMET超級油石在適當潤滑的條件下打磨拋光10.壓力機沖頭及凹模角位的配合對策：使用GESSWEIN 指示器(具有不同形狀與尺寸). 可以與GESSWEIN 手工拋光系統一起使用11.小精密沖頭及凹模刃口須被磨光鋒利化對策：與磨削不同, 在Kemet 鐵磨光機上用Kemet 鐵將沖頭及凹模的刃口面磨光使其鋒利12.一個型腔 (不是鑲入的)銑削後如何拋光對策：先處理角部位.用 GESSWEIN油石, 隨後再用硬木條加鑽石膏14-KD-C2 打磨, 再加用鑽石膏6-KD-C2打磨, 然後用軟木條或毛氈加Kemet 3-KD-C2 鑽石膏打磨拋光.不同砂號工序之間要徹底清潔.角部位的工序完成以後, 再用油石打磨及拋光主要型面模具的拋光實際提示鑽石膏是拋光操作最常用研磨材料。採用正確的研磨膏和拋光工具，可獲得極佳的拋光效果。手動（人工）拋光常用的工具有研磨棒、研磨片和研磨塊，機械拋光常用的工具有拋光布輪，拋光刷和拋光轉盤。拋光工具的材料有著不同的硬度，從金屬材料，各種纖維（如木材，人造纖維）到軟毛氈。拋光工具的硬度直接影響著鑽石磨粒露出的程度，從而影響金屬的去除速率。拋光操作是一項耗費時間和費用昂貴的工序，遵循一定的守則可以降低拋光操作的成本。拋光的每一個步驟必須保持清潔，這一點最重要。2 拋光必須在清潔無塵的室內進行。硬塵粒會污染研磨材料，損害已接近完成的模具表面2 每個拋光工具只使用一個級別的拋光鑽石膏，並存放在防塵或密封的容器內2 由於加了鑽石膏，拋光工具會顯得飽和，隨著不斷使用，情況會有所改善2 當要轉換更細一級的砂號時，必須清洗雙手和工件。用肥皂清洗雙手，用除脂溶劑清洗工件2 手動（人工）拋光時，鑽石膏要塗在拋光工具上，機械拋光時研磨膏要塗在工件上2拋光時所使用的壓力與拋光工具的硬度和研磨膏的等級應互相調整和適應，進行最細一級的拋光時，壓力要調整到與拋光工具的重量相約2 要獲得較大的鋼材除去率，必須使用較硬的拋光工具和較粗砂粒的鑽石膏2 塑膠模具的最終拋光應沿著工件脫模的方向進行2 開始拋光時要先處理角落、邊角和圓角等較難拋光的地方2 處理尖角及邊角應特別小心，注意不要形成圓角或圓邊，應盡量採用較硬的拋光工具
『貳』 塑料模具表面劃痕很多，怎樣才能磨光
拋光或者鍍鉻。
『叄』 鍐插帇妯″叿紓ㄥ厜鎬庝箞鍥炰簨
鎴戞兂浣犵殑紓ㄥ厜鍙鑳戒篃鍙韞鍏夛紝搴旇ユ槸妯″叿鍨嬮潰闇瑕佹墦紓ㄧ殑涓閬撳伐搴忥紝閫氬父鏄鏈夐挸宸ュ畬鎴愩
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